最終更新日：2022/12/24
これらの工(こう)法(ほう)でフォトレジストは回(かい)路(ろ)形(けい)成(せい)プロセスで用(もち)いられ,通(つう)常(じょう)は加(か)工(こう)後(あと)剥(はく)離(り)されてPWB(プリントきばん)上( うえ)には残(のこ)らないプロセス材(ざい)料(りょう)である。
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元となった例文
Korera no kōhō de fotorejisuto wa kairo keisei purosesu de mochiirare, tsūjō wa kakō ato hakurisarete purinto-kiban ue ni wa nokoranai purosesu zairyō de aru.With these techniques, photoresist is used during the circuit formation process, and is usually removed after processing so that no material from the process remains on the PWB.
